Производители полупроводников в Китае начали модернизацию своего оборудования для изготовления ИИ-чипов, чтобы обойти международные экспортные ограничения. Как сообщает Financial Times, китайские фабрики, занимающиеся производством передовых смартфонов и чипов для искусственного интеллекта, увеличили эффективность своих машин глубокого ультрафиолетового литографирования (DUV) от ASML. Из-за ограничений, введённых США и Нидерландами, ASML не может поставлять свои новейшие DUV-системы в Китай. В результате многие фабрики вынуждены использовать устаревшие модели, такие как Twinscan NXT:1980i, для производства 7-нм чипов. По словам источников, компании закупают необходимые компоненты на вторичном рынке и модернизируют свои DUV-машины с помощью местных подрядчиков. ASML подчеркивает, что соблюдает все законы и не поддерживает несанкционированные обновления. В то же время США продолжают оказывать давление на другие страны, чтобы они также ограничивали экспорт в Китай.