Компания Dai Nippon Printing из Японии сделала значительный шаг вперед в области нанолитографии, предложив решение, которое может оказаться более выгодным, чем традиционная фотолитография, доминирующая на рынке. По информации Nikkei Asia, нидерландская ASML контролирует около 90% рынка оборудования для производства чипов, используя фотолитографию, основанную на мощных УФ-лазерах, что требует огромных затрат энергии и значительных инвестиций в оборудование.
Однако новая разработка японских инженеров предлагает альтернативу: вместо рисования схемы лазером, схема отпечатывается на кремнии. Ранее существовало мнение, что этот метод не подходит для чипов с топологическим узлом менее 2 нанометров. Тем не менее, специалисты Dai Nippon Printing удалось преодолеть это ограничение с помощью нового материала, который позволяет точно формировать рисунок микросхемы. Оборудование Canon, используемое в процессе, может создавать структуры размером до 1,4 нм, что делает новую нанолитографию на 90% дешевле традиционного метода.
Ведущие производители, такие как Samsung Electronics, TSMC, Micron Technology и Kioxia, уже проявили интерес к этой технологии. Kioxia запустила тестовое производство, и если результаты окажутся успешными, массовое внедрение может начаться в 2027-2028 годах.